Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) сообщил о завершении работ по созданию первого российского литографа. Разработанная установка совмещения и проекционного экспонирования обладает разрешением 350 нанометров. Проект реализован в сотрудничестве с белорусской компанией ОАО «Планар».
Государственная комиссия уже приняла установку, сейчас специалисты адаптируют её к техпроцессам конечных потребителей и заключают контракты на поставку серийного оборудования. В 2026 году планируется завершить создание российского литографа с возможностью работы по 130-нм технологическим нормам.
Генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев отметил преимущества новой разработки. Значительно увеличена площадь рабочего поля до 22 × 22 мм, а максимальный диаметр обрабатываемых пластин достигает 200 мм. Важной особенностью российской установки стало использование твердотельного лазера вместо традиционной ртутной лампы, что обеспечивает большую мощность, энергоэффективность и долговечность.
Хотя по мировым стандартам оборудование для выпуска 350-нм чипов может считаться устаревшим, такие компоненты всё ещё востребованы в силовой электронике, автомобильной промышленности и оборонном секторе. Основной акцент ЗНТЦ будет делать на создании литографов следующего поколения для производства 130-нм чипов, которые больше соответствуют потребностям отечественных производителей «Ангстрем» и «Микрон».
Правительство РФ поставило цель освоить 28-нм технологию к 2027 году и 14-нм к 2030 году. Пока отечественные производители оборудования не укладываются в намеченный график, но создание первого литографа – важный шаг к технологической независимости страны. Наличие собственного оборудования для производства микроэлектроники особенно ценно в условиях ограниченного доступа к импортным технологиям.